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FESTO電磁閥的研磨原理和方法

更新時間:2022-02-24      瀏覽次數:591

    FESTO電磁閥的研磨原理和方法

    在FESTO電磁閥閥門製造過程中是其密封麵常用的一種光整加工方法。研磨可以使閥門密封麵獲得很高的尺寸精度、幾何形狀粗度及表麵粗糙度,但不能提高密封麵各表麵間的相互位置精度。研磨後的閥門密封麵通常可以到的尺寸精度為(wei) 0.001~0.003mm;幾何形狀精度(如不平度)為(wei) 0.001mm;表麵粗糙度為(wei) 0.1~0.008。

    密封麵研磨的基本原理包括研磨過程、研磨運動、研磨速度、研磨壓力及研磨餘(yu) 量五個(ge) 方麵。

    1 研磨過程

    FESTO電磁閥研具與(yu) 密封圈表麵很地巾合在一起,研具沿貼合表麵作複雜的研磨運動。研具與(yu) 密封圈表麵間放有研磨劑,當研具與(yu) 密封圈表麵相對運動時,研磨劑中的部分磨粒在研具與(yu) 密封圈表麵間滑動或滾動,切去密封圈表麵上很薄的一層金屬。密封圈表麵上的凸峰部分首先被磨去,然後漸漸達到要求的幾何形狀。

    研磨不僅(jin) 是磨料對金屬的機械加工過程,同時還有化學作用。研磨劑中的油脂能使被加工表麵形成氧化膜,從(cong) 而加速了研磨過程。

    2 研磨運動

    研具與(yu) 密封圈表麵相對運動時,密封圈表麵上每一點對研具的相對滑動路和都應該相同。並且,相對運動的方向應不斷變更。運動方向的不斷變化使每一磨粒不會(hui) 在密封圈表麵上重複自己運動軌跡,以免造成的磨痕而增高密封圈表麵的粗糙度。此外,運動方向的為(wei) 斷變化不能使研磨劑分布得比較均勻,從(cong) 而較均勻地切去密封圈表麵的金屬。

    研磨運動盡管複雜,運動方向盡管大變化,但研磨運動始終是沿著研具與(yu) 密封圈表麵的貼合表麵進行的。無論是手工研磨或機械研磨,密封圈表麵的幾何形狀精度則主要受研具的幾何形狀精度及研磨運動的影響。

    3 研磨速度

    研磨運動的速度越快,研磨的效率也越高。研磨速度快,在單位時間內(nei) 工件表麵上通過的磨粒比較多,切去的金屬也多。

    研磨速度通常為(wei) 10~240m/min。研磨精度要求高的工件,研磨速度一般不超過30m/min。閥門密封麵的研磨速度與(yu) 密封麵的材料有關(guan) ,銅及鑄鐵密封麵的研磨速度為(wei) 10~45m/min;淬硬鋼及硬質合金密封麵為(wei) 25~80m/min;奧氏體(ti) 不鏽鋼密封麵為(wei) 10~25m/min。

    4 研磨壓力

    FESTO電磁閥研磨效率隨研磨壓力的增大而提高,研磨壓力不能過大,一般為(wei) 0.01~0.4MPa。

    研磨鑄鐵、銅及奧氏體(ti) 不鏽鋼材料的密封麵時,研磨壓力為(wei) 0.1~0.3MPa;淬硬鋼和硬質合金密封麵為(wei) 0.15~0.4MPa。粗研時取較大值,精研時取較小值。

    5 研磨餘(yu) 量

    由於(yu) FESTO電磁閥研磨是光整加工工序,故切削量很小。研磨餘(yu) 量的大小取決(jue) 於(yu) 上道工序的加工精度和表麵粗糙度。在去除上道工序加工痕跡和修正密封圈幾何形狀誤差的前提下,研磨餘(yu) 量愈小愈。

    FESTO電磁閥密封麵研磨前一般應經過精磨。經精磨後的密封麵可直接精研,其小研磨餘(yu) 量為(wei) :直徑餘(yu) 量為(wei) 0.008~0.020mm;平麵餘(yu) 量為(wei) 0.006~0.015mm。手工研磨或材料硬度較高時取小值,機械研磨或材料硬度較低時取大值。

    FESTO電磁閥閥體(ti) 密封麵不便磨削加工,可采用精車。精車後的密封麵須粗研後才能進行精研,其平麵餘(yu) 量為(wei) 0.012~0.050mm


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